Carrier recombination parameters in diamond after surface boron implantation and annealing

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标题	Carrier recombination parameters in diamond after surface boron implantation and annealing 相关领域钻石离子注入退火（玻璃）重组材料科学硼载流子寿命空位缺陷氮气分析化学（期刊）航程（航空）分子物理学光电子学硅化学冶金结晶学离子复合材料色谱法有机化学基因生物化学
网址	https://doi.org/10.1063/5.0004881
DOI	10.1063/5.0004881 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Paulius Grivickas; Patrik Ščajev; N. Kazuchits; Alexander V. Mazanik; Olga V. Korolik; et al 出版日期：2020-06-29
求助人	zuozuozuo 在 2022-10-26 15:12:38 发布自北京，悬赏 10 积分
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