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 Simulation study of zone-height limit by electron beam lithography for 30 nm Fresnel zone plates in X ray optics X射线光学中30nm菲涅耳波带片电子束光刻区高限制的模拟研究
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期刊：Microelectronic engineering 作者：Qiucheng Chen; Chengyang Mu; Xujie Tong; Jun Zhao; Qingxin Wu; et al 出版日期：2023-03-01 |
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