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Application of Penta-Di-Methyl-Amino-Tantalum to a Tantalum Source in Chemical Vapor Deposition of Tantalum Oxide Films
五二甲基氨基钽在化学气相沉积氧化钽薄膜中的应用
相关领域
钽
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期刊:Japanese journal of applied physics 作者:Toshiya Tabuchi; Yoshinori Sawado; Kunimasa Uematsu; Shohei Koshiba 出版日期:1991-11-01 |
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