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标题
On the scaling of subnanometer EOT gate dielectrics for ultimate nano CMOS technology
用于终极纳米CMOS工艺的亚纳米EOT栅介质的缩放
相关领域
CMOS芯片 缩放比例 材料科学 电介质 纳米- 纳米电子学 纳米技术 光电子学 复合材料 数学 几何学
网址
https://doi.org/10.1016/j.mee.2015.02.023
DOI
10.1016/j.mee.2015.02.023 doi
其它 期刊：Microelectronic Engineering
作者：Hei Wong; Hiroshi Iwai
出版日期：2015-02-18
求助人
Lijia_YAO 在 2025-01-20 19:26:41 发布自安徽，悬赏 10 积分
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