TEOS-PECVD Films for High-Quality SiO2 Cladding Layers in Si3N4-Photonics with Low Mechanical Stress and Optical Loss

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标题	TEOS-PECVD Films for High-Quality SiO2 Cladding Layers in Si3N4-Photonics with Low Mechanical Stress and Optical Loss 具有低机械应力和光学损耗的Si3N4-光子学中高质量SiO2包层的TEOS-PECVD薄膜相关领域包层（金属加工）等离子体增强化学气相沉积光子学材料科学光电子学压力（语言学）硅光子学化学气相沉积复合材料语言学哲学
网址	https://doi.org/10.1109/pn62551.2024.10621767
DOI	10.1109/pn62551.2024.10621767 doi
其它	期刊：2022 Photonics North (PN) 作者：L. Mehrvar; Boris Le Drogoff; Michaël Ménard; Mohamed Chaker 出版日期：2024-05-28
求助人	zz 在 2025-02-12 15:20:42 发布自澳大利亚，悬赏 10 积分
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