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Optimization of absorber and multilayer in EUV mask for 1D and 2D patterns
用于1D和2D图案的EUV掩模中吸收剂和多层的优化
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期刊: 作者:Taian Fan; Zhizhen Yang; Lisong Dong; Yayi Wei; Yan Jiang; et al 出版日期:2018-10-03 |
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