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 High-temperature annealing effects on epitaxial TiN films on 4H-SiC 高温退火对4H-SiC外延TiN薄膜的影响
相关领域
材料科学
锡
退火（玻璃）
外延
光电子学
薄膜
工程物理
冶金
纳米技术
图层（电子）
工程类
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期刊：Surface and Coatings Technology 作者：Hsueh-I Chen; Ching‐Ho Chen; Yi Chou; Jhih-Syuan Chen; Y.F. Hsu; et al 出版日期：2024-03-26 |
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