Recent Advances in Plasma Etching for Micro and Nano Fabrications of Silicon-based Materials: A Review

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标题	Recent Advances in Plasma Etching for Micro and Nano Fabrications of Silicon-based Materials: A Review 等离子体刻蚀在硅基材料微纳制备中的研究进展相关领域材料科学等离子体刻蚀纳米- 纳米技术蚀刻（微加工）硅等离子体工程物理光电子学复合材料工程类核物理学图层（电子）物理
网址	https://doi.org/10.1039/d4tc00612g
DOI	10.1039/d4tc00612g doi
其它	期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Chaojiang Li; Yuxin Yang; R.T. Qu; Xun Cao; Ye Liu; et al 出版日期：2024-01-01
求助人	qinsu 在 2025-01-03 17:28:58 发布自伊朗，悬赏 10 积分
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