| 标题 |
 The Stress and Microstructure analysis of Polycrystalline Silicon Films Deposited by LPCVD LPCVD沉积多晶硅薄膜的应力和微观结构分析
相关领域
材料科学
残余应力
化学气相沉积
复合材料
微观结构
表面粗糙度
纳米晶硅
粒度
硅
分析化学（期刊）
冶金
非晶硅
晶体硅
纳米技术
图层（电子）
化学
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：MRS Proceedings 作者：Y. T. Cherng; M.C. Boysel; Byron D. Gates 出版日期：2012-01-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
不配.
pluto
一一
pcr163
VDC
彭于彦祖
HCLonely
36456657
tuanheqi
Endlessway
8R60d8
嗯哼
杳鸢
乐乐乐乐乐乐
lalala
bear
甜甜玫瑰
猫咪老师
Henry
maox1aoxin
皖公网安备34019202002308
