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 Surface etching, chemical modification and characterization of silicon nitride and silicon oxide—selective functionalization of Si3N4and SiO2 氮化硅和氧化硅的表面刻蚀、化学改性及表征——Si3N4和SiO2的选择性功能化
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期刊：Journal of Physics: Condensed Matter 作者：Li Hong Liu; David J. Michalak; Tatiana Peixoto Chopra; Sidharam P. Pujari; Wilfredo Cabrera; et al 出版日期：2016-02-12 |
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