Impact of Top SiO₂ Interlayer Thickness on Memory Window of Si Channel FeFET With TiN/SiO₂/Hf₀.₅Zr₀.₅O₂/SiOx/Si (MIFIS) Gate Structure

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标题	Impact of Top SiO₂ Interlayer Thickness on Memory Window of Si Channel FeFET With TiN/SiO₂/Hf₀.₅Zr₀.₅O₂/SiOx/Si (MIFIS) Gate Structure TiN/SiO₂/Hf₀.₅Zr₀.₅O₂/SiOx/Si（MIFIS）栅结构Si沟道FeFET存储窗口中SiO₂中间层厚度的影响相关领域锡材料科学硅频道（广播）窗口（计算）光电子学计算机科学冶金电信万维网
网址	http://dx.doi.org/10.1109/TED.2024.3459873
DOI	10.1109/TED.2024.3459873 doi
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