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 Investigation of Amorphous Silicon as Dry Etch Hard Mask in BEOL Low-k Dielectric Patterning 非晶硅作为BEOL低k介质图形干法刻蚀硬掩模的研究
相关领域
材料科学
电介质
无定形固体
硅
光电子学
低介电常数
干法蚀刻
非晶硅
工程物理
蚀刻（微加工）
纳米技术
晶体硅
结晶学
工程类
化学
图层（电子）
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| 其它 |
期刊： 作者：Juxin Yin; Fuqiang Zheng; Liuyang Shu; Yan Zhang; Jingru Shen; et al 出版日期：2024-03-17 |
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