标题 |
Study of the humidity-controlled CeO2 fixed-abrasive chemical mechanical polishing of a single crystal silicon wafer
CeO2固着磨料湿控化学机械抛光单晶硅晶片的研究
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期刊:Tribology International 作者:Gengzhuo Li; Chen Xiao; Shibo Zhang; Shusheng Luo; Yuhan Chen; et al 出版日期:2023-02-01 |
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