Research on Dry Etching Process of Phosphorus-Doped Polysilicon

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标题	Research on Dry Etching Process of Phosphorus-Doped Polysilicon 掺磷多晶硅干法刻蚀工艺研究相关领域干法蚀刻材料科学蚀刻（微加工）磷兴奋剂过程（计算）多晶硅耗尽效应光电子学纳米技术冶金计算机科学电气工程工程类图层（电子）晶体管电压操作系统栅氧化层
网址	https://doi.org/10.12677/app.2020.1012066
DOI	10.12677/app.2020.1012066 doi
其它	期刊：Applied Physics 作者：瑞刘出版日期：2020-01-01
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