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 The effect of Al–Ta2O5 topographic interface roughness on the leakage current of Ta2O5 thin films Al-Ta2O5形貌界面粗糙度对Ta2O5薄膜漏电流的影响
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Y. S. Kim; Y. H. Lee; Kyntae Lim; Man Young Sung 出版日期：1999-05-10 |
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