标题 |
[求助补充材料] Designing Topology and Fractionalization in Narrow Gap Semiconductor Films via Electrostatic Engineering
利用静电工程设计窄间隙半导体薄膜的拓扑和分形
相关领域
分馏
半导体
拓扑(电路)
材料科学
凝聚态物理
物理
工程物理
光电子学
电气工程
民族
工程类
社会学
人类学
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其它 |
期刊:Physical Review Letters 作者:Tixuan Tan; Aidan P. Reddy; Liang Fu; Trithep Devakul 出版日期:2024-11-12 |
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