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标题
Recrystallization kinetics of fully amorphized C3H5-molecular-ion-implanted silicon substrate surface
全非晶C3H5分子离子注入硅衬底表面的再结晶动力学
相关领域
材料科学 再结晶（地质） 动力学 硅 离子 基质（水族馆） 离子注入 光电子学 古生物学 海洋学 物理 量子力学 生物 地质学
网址
https://doi.org/10.1557/s43580-024-01073-y
DOI
10.1557/s43580-024-01073-y doi
其它 期刊：MRS Advances
作者：K. Kobayashi; Ryosuke Okuyama; Takeshi Kadono; Ayumi Onaka‐Masada; Ryo Hirose; et al
出版日期：2025-01-03
求助人
flystone 在 2025-02-06 16:23:40 发布自浙江，悬赏 10 积分
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