标题 |
Exploring manufacturability of novel 2D channel materials: 300 mm wafer-scale 2D NMOS & PMOS using MoS2, WS2, & WSe2
探索新型2D沟道材料的可制造性:使用MoS2、WS2和WSe2的300 mm晶圆级2D NMOS和PMOS
相关领域
PMOS逻辑
NMOS逻辑
可制造性设计
材料科学
薄脆饼
光电子学
MOSFET
频道(广播)
平版印刷术
电气工程
电子工程
晶体管
工程类
电压
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊: 作者:C. J. Dorow; T. Schram; Quentin Smets; Kevin O’Brien; K. Maxey; et al 出版日期:2023-12-09 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|