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 Room temperature inductively coupled plasma etching of InP with Cl2 mixtures using SiO2 and photoresist masks 使用SiO2和光刻胶掩模的Cl2混合物室温电感耦合等离子体刻蚀InP
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：Qingyue Li; Claire Deeb; Hélène Debregeas; Jean-Luc Pélouard 出版日期：2024-02-14 |
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