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 Stress control of silicon nitride films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition 等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜的应力控制
相关领域
等离子体增强化学气相沉积
材料科学
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期刊：Optoelectronics Letters 作者：Dongling Li; Xiaofei Feng; Zhiyu Wen; Zhengguo Shang; Yin She 出版日期：2016-07-01 |
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