| 标题 |
 Calcium Fluoride Films with 2–10 nm Thickness on Silicon-(111): Growth, Diagnostics, Study of the through Current Transport 硅-(111)上厚度为2-10 nm的氟化钙薄膜：生长、诊断、直通电流传输研究
相关领域
电流（流体）
钙
硅
材料科学
氟化物
光电子学
纳米技术
化学
无机化学
冶金
电气工程
工程类
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| DOI | |
| 其它 |
期刊：Semiconductors 作者：A. G. Banshchikov; M. I. Vexler; И. А. Иванов; Yu. Yu. Illarionov; N. S. Sokolov; et al 出版日期：2023-04-01 |
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