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标题
Effect of substrate temperature and oxygen partial pressure on RF sputtered NiO thin films
衬底温度和氧分压对射频溅射NiO薄膜的影响
相关领域
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网址
DOI
10.1088/2053-1591/aab875 doi
其它 期刊:Materials research express
作者:Saheer Cheemadan; M.C. Santhosh Kumar
出版日期:2018-04-06
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钇铯 在 2024-11-28 16:06:09 发布自云南,悬赏 10 积分
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