标题 |
Effect of substrate temperature and oxygen partial pressure on RF sputtered NiO thin films
衬底温度和氧分压对射频溅射NiO薄膜的影响
相关领域
非阻塞I/O
分压
材料科学
薄膜
微观结构
基质(水族馆)
无定形固体
氧气
溅射
氧化镍
微晶
分析化学(期刊)
镍
复合材料
冶金
纳米技术
结晶学
化学
催化作用
色谱法
生物化学
海洋学
有机化学
地质学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Materials research express 作者:Saheer Cheemadan; M.C. Santhosh Kumar 出版日期:2018-04-06 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|