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标题
Advanced EUV patterning of 2D TMDs for CMOS integration
用于CMOS集成的二维TMD的高级EUV图案化
相关领域
极紫外光刻 PMOS逻辑 材料科学 NMOS逻辑 晶体管 极端紫外线 光电子学 平版印刷术 CMOS芯片 纳米技术 电压 电气工程 光学 物理 激光器 工程类
网址
DOI
10.1117/12.3011818 doi
求助人
zhangxh 在 2024-12-19 15:54:42 发布自上海,悬赏 20 积分
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