| 标题 |
 Key Sputtering Parameters for Precursor In2O3 Films to Achieve High Carrier Mobility 前驱体In2O3薄膜实现高载流子迁移率的关键溅射参数
相关领域
材料科学
溅射
钥匙（锁）
光电子学
纳米技术
工程物理
薄膜
计算机科学
计算机安全
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
薰硝壤
不配.
Henry
浅尝离白
个性的紫菜
juziyaya
咖啡豆
Singularity
有人
寻道图强
Leonardi
iNk
shinysparrow
竹筏过海
pcr163
肯德鸭
itsserene
8R60d8
tuanheqi
yufanhui
皖公网安备34019202002308
