标题 |
Relationship between resist outgassing and EUV witness sample contamination in NXE outgas qualification using electrons and EUV photons
使用电子和EUV光子的NXE脱气鉴定中抗蚀剂脱气与EUV见证样品污染之间的关系
相关领域
放气
极紫外光刻
抵抗
极端紫外线
光子
材料科学
光学
电子
真空度
物理
纳米技术
核物理学
天文
激光器
量子力学
图层(电子)
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Ivan Pollentier; A. Tirumala Venkata; Roel Gronheid 出版日期:2014-04-17 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|