| 标题 |
 The effect of interfacial layer properties on the performance of Hf-based gate stack devices 界面层特性对高频栅堆叠器件性能的影响
相关领域
高-κ电介质
电介质
材料科学
堆栈（抽象数据类型）
图层（电子）
氧气
栅极电介质
电子顺磁共振
谱线
分析化学（期刊）
光谱学
凝聚态物理
沉积（地质）
晶体管
光电子学
化学
核磁共振
电压
纳米技术
色谱法
沉积物
程序设计语言
计算机科学
有机化学
古生物学
物理
天文
生物
量子力学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Applied Physics 作者：G. Bersuker; C. S. Park; Joel Barnett; Patrick Lysaght; P. D. Kirsch; et al 出版日期：2006-11-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
昏睡的蟠桃
冰魂
cdercder
pluto
归尘
SYLH
sutharsons
zmnzmnzmn
科研助手6
iNk
科研小民工
bc
文献看不懂
8R60d8
震震
back you up
过时的奇迹
kingwill
顺心香菇
平常的毛豆
皖公网安备34019202002308
