| 标题 |
 Review of plasma-enhanced atomic layer deposition: technical enabler of nanoscale device fabrication 相关领域
原子层沉积
制作
纳米尺度
纳米技术
材料科学
可控性
图层（电子）
沉积（地质）
纳米
等离子体
有可能
光电子学
物理
心理学
古生物学
替代医学
病理
量子力学
沉积物
心理治疗师
医学
数学
应用数学
复合材料
生物
|
| 网址 |
求助人暂未提供
|
| DOI |
暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
|
| 其它 | Jpn J Appl Phys. 2014;53:03DA01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cdercder
ceeray23
剑指东方是为谁
pluto
SYLH
痴情的博超
YifanWang
子车茗
tuanheqi
十三
昏睡的蟠桃
劲秉
斯寜
back you up
科研小民工
神说
wuludie
佰斯特威
贰鸟
MchemG
皖公网安备34019202002308
