| 标题 |
 Analysis of retaining ring using finite element simulation in chemical mechanical polishing process 化学机械抛光过程中挡圈的有限元模拟分析
相关领域
薄脆饼
化学机械平面化
冯·米塞斯屈服准则
材料科学
抛光
有限元法
GSM演进的增强数据速率
研磨
压力（语言学）
复合材料
旋转对称性
机械工程
结构工程
机械
光电子学
工程类
物理
电信
哲学
语言学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
爱静静
嘉心糖
fillippo99
林荫下的熊
大气的鹭洋
36456657
iNk
蒋时晏
杳鸢
pcr163
子车茗
HCLonely
tuanheqi
丰知然
Leonardi
请叫我风吹麦浪
sissiarno
Jenny
Ganlou
毛豆
皖公网安备34019202002308
