Integration HDP CVD oxide sputtering effect for metal void defect solution

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标题	Integration HDP CVD oxide sputtering effect for metal void defect solution 金属空洞缺陷解决方案的集成HDP CVD氧化物溅射效应相关领域材料科学空隙（复合材料）氧化物金属溅射薄脆饼复合材料热的冶金光电子学薄膜纳米技术物理气象学
网址	https://doi.org/10.1109/smtw.2002.1197400
DOI	10.1109/smtw.2002.1197400 doi
其它	期刊：作者：Chunsheng Lin; Jack Huang; Hong Shaofang; Chi-Shen Lo; Long-Siang Chuang 出版日期：2004-03-02
求助人	hh 在 2024-10-15 15:30:26 发布自北京，悬赏 10 积分
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