标题 |
Zone plate-based extreme ultraviolet mask microscope with through-pellicle imaging capability
具有透膜成像能力的波带板极紫外掩膜显微镜
相关领域
极端紫外线
光学
显微镜
材料科学
显微镜
紫外线
物理
激光器
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DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者:Markus P. Benk; Dmytro Zaytsev; C. Orman; Brandon Vollmer; Daniel Rodrigues dos Santos; et al 出版日期:2024-08-20 |
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