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标题
Nanosized-Metal-Grain-Induced Characteristic Fluctuation in 16 nm Complementary Metal–Oxide–Semiconductor Devices and Digital Circuits
16nm互补金属氧化物半导体器件和数字电路中纳米金属晶粒诱导的特性涨落
相关领域
MOSFET 材料科学 逆变器 晶体管 电子线路 CMOS芯片 阈值电压 光电子学 金属 场效应晶体管 金属浇口 电压 栅氧化层 电气工程 工程类 冶金
网址
https://doi.org/10.1143/jjap.50.04dc22
DOI
10.1143/jjap.50.04dc22 doi
其它 期刊：Japanese journal of applied physics
作者：Yiming Li; Hui Cheng
出版日期：2011-04-01
求助人
Yuksn 在 2024-04-18 13:52:45 发布自福建，悬赏 10 积分
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