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Cobalt Polishing with Reduced Galvanic Corrosion at Copper/Cobalt Interface Using Hydrogen Peroxide as an Oxidizer in Colloidal Silica-Based Slurries
以过氧化氢为氧化剂在胶体硅基浆料中减少铜/钴界面电偶腐蚀的钴抛光
相关领域
钴
泥浆
过氧化氢
抛光
铜
材料科学
电偶腐蚀
腐蚀
原电池
钴萃取技术
胶体二氧化硅
冶金
无机化学
化学
复合材料
涂层
有机化学
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其它 |
期刊:Journal of The Electrochemical Society 作者:B. Peethala; H. P. Amanapu; Uma Rames Krishna Lagudu; S. V. Babu 出版日期:2012-01-01 |
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