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![]() SiO2层对原子层沉积Al2O3基电阻开关存储器的影响
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Chandreswar Mahata; Min‐Hwi Kim; Suhyun Bang; Tae‐Hyeon Kim; Dong Keun Lee; et al 出版日期:2019-05-06 |
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