Aluminum‐Doped Indium Oxide Electron Transport Layer Grown by Atomic Layer Deposition: Highly Efficient and Damage‐Resistant Interconnection Solution for All‐Perovskite Tandem Solar Cells with 25.46% Efficiency

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标题	Aluminum‐Doped Indium Oxide Electron Transport Layer Grown by Atomic Layer Deposition: Highly Efficient and Damage‐Resistant Interconnection Solution for All‐Perovskite Tandem Solar Cells with 25.46% Efficiency 原子层沉积生长的铝掺杂氧化铟电子传输层：全钙钛矿叠层太阳能电池高效抗损伤互连解决方案，效率为25.46% 相关领域原子层沉积材料科学串联兴奋剂光电子学能量转换效率钙钛矿（结构）制作钙钛矿太阳能电池太阳能电池图层（电子）纳米技术化学工程复合材料医学替代医学病理工程类
网址	https://doi.org/10.1002/smll.202407036 AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1002/smll.202407036 doi
其它	期刊：Small 作者：Pil Ju Youn; Mun Young Woo; Jong Hyeon Won; Jeong Min Im; Jun Hyuk Lee; et al 出版日期：2024-10-23
求助人	楚楚楚在 2025-04-03 15:35:49 发布自江苏，悬赏 10 积分
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