Silicon‐Compatible Ferroelectric Tunnel Junctions with a SiO2/Hf0.5Zr0.5O2 Composite Barrier as Low‐Voltage and Ultra‐High‐Speed Memristors - 科研通

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标题	Silicon‐Compatible Ferroelectric Tunnel Junctions with a SiO2/Hf0.5Zr0.5O2 Composite Barrier as Low‐Voltage and Ultra‐High‐Speed Memristors 具有SiO2/Hf0.5Zr0.5O2复合势垒的硅相容铁电隧道结作为低压和超高速忆阻器相关领域材料科学硅复合数电压光电子学铁电性纳米技术电气工程复合材料电介质工程类
网址	https://doi.org/10.1002/adma.202211305 AI链接 nih.govdoi.org
DOI	10.1002/adma.202211305 doi
其它	期刊：Advanced Materials 作者：He Wang; Zeyu Guan; Jiachen Li; Zhen Luo; Xinzhe Du; et al 出版日期：2024-01-31
求助人	三金在 2024-12-02 16:22:00 发布自河北，悬赏 10 积分
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