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Evaluation of the chemical states and electrical activation of ultra-highly B-doped Si1-xGex by ion implantation and subsequent nanosecond laser annealing
通过离子注入和随后的ns激光热处理评估超高掺B Si 1-xGex的化学状态和电激活
相关领域
材料科学
X射线光电子能谱
兴奋剂
分析化学(期刊)
掺杂剂
退火(玻璃)
化学状态
掺杂剂活化
硅
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化学
核磁共振
物理
色谱法
复合材料
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期刊:Applied Surface Science 作者:K.-G. Lee; Chang Heum Jo; Dong-Soo Yoon; Seunghyun Baik; Dae-Hong Ko 出版日期:2024-02-22 |
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