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Remote Plasma Etching of Backend Semiconductor Materials for Reliable Packaging
用于可靠封装的后端半导体材料的远程等离子体蚀刻
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期刊:Diffusion and defect data, solid state data. Part B, Solid state phenomena/Solid state phenomena 作者:Rogier Evertsen; Nicolle Beckers; Shao Ying Wang; Richard van der Stam 出版日期:2021-02-01 |
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