Surface sulfurization of amorphous carbon films in the chemistry of oxygen plasma added with SO2 or OCS for high-aspect-ratio etching

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标题	Surface sulfurization of amorphous carbon films in the chemistry of oxygen plasma added with SO2 or OCS for high-aspect-ratio etching 高纵横比刻蚀中SO2或OCS氧等离子体化学中非晶碳膜的表面硫化相关领域 X射线光电子能谱蚀刻（微加工）氧气碳纤维羰基硫醚化学硫黄无定形碳无定形固体等离子体分析化学（期刊）化学工程材料科学环境化学结晶学有机化学图层（电子）复合材料复合数物理量子力学工程类
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2023.158876
DOI	10.1016/j.apsusc.2023.158876 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Kenji Ishikawa; Thi‐Thuy‐Nga Nguyen; Yuta Aoki; Hiroyasu Sato; Junichi Kawakami; et al 出版日期：2023-11-08
求助人	Litoivda 在 2025-02-19 11:10:22 发布，悬赏 10 积分
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