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 Low resistivity HfNx grown by plasma-assisted ALD with external rf substrate biasing 等离子体辅助ALD外加射频衬底偏置生长低电阻率HfNx
相关领域
材料科学
电阻率和电导率
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期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Saurabh Karwal; Marcel A. Verheijen; B. L. Williams; Tahsin Faraz; W.M.M. Kessels; et al 出版日期：2018-01-01 |
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