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 Applications of large field of view e-beam metrology to contour-based optical proximity correction modeling 大视野电子束计量在基于轮廓的光学接近修正建模中的应用
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期刊：Journal of Micro/Nanopatterning Materials and Metrology 作者：Chih-I Wei; Seul-Ki Kang; Sayantan Das; Masahiro Oya; Yosuke Okamoto; et al 出版日期：2023-10-19 |
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