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Development on main chain scission resists for high-NA EUV lithography
高钠极紫外光刻用主链断裂抗蚀剂的研制
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期刊: 作者:Akihide Shirotori; Manabu Hoshino; Makoto Fujimura; SinFu Yeh; Hyo Seon Suh; et al 出版日期:2023-05-01 |
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