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Passive‐Oxidation Kinetics of High‐Purity Silicon Carbide from 800° to 1100°C
800~1100℃高纯碳化硅的被动氧化动力学
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期刊:Journal of the American Ceramic Society 作者:C. Eric Ramberg; Gary Cruciani; Karl E. Spear; Richard E. Tressler; Charles F. Ramberg 出版日期:2005-09-23 |
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