Etch Properties of Amorphous Carbon Material Using RF Pulsing in the O<SUB>2</SUB>/N<SUB>2</SUB>/CHF<SUB>3</SUB> Plasma - 科研通

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标题	[高分] Etch Properties of Amorphous Carbon Material Using RF Pulsing in the O<SUB>2</SUB>/N<SUB>2</SUB>/CHF<SUB>3</SUB> Plasma 射频脉冲在O₂/N₂/CHF₃等离子体中刻蚀非晶碳材料的性能相关领域材料科学钝化无定形固体分析化学（期刊）蚀刻（微加工）图层（电子）小丘等离子体占空比复合材料电压电气工程化学结晶学物理色谱法量子力学工程类
网址	https://doi.org/10.1166/jnn.2015.11489
DOI	10.1166/jnn.2015.11489 doi
其它	期刊：Journal of Nanoscience and Nanotechnology 作者：Min Hwan Jeon; Jin Woo Park; Deok Hyun Yun; Kyong Nam Kim; Geun Young Yeom 出版日期：2015-09-10
求助人	lqy1214 在 2024-11-22 17:05:57 发布自江苏，悬赏 150 积分
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