Surface passivation properties of boron-doped plasma-enhanced chemical vapor deposited hydrogenated amorphous silicon films on p-type crystalline Si substrates

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标题	Surface passivation properties of boron-doped plasma-enhanced chemical vapor deposited hydrogenated amorphous silicon films on p-type crystalline Si substrates p型晶体硅衬底上掺硼等离子体增强化学气相沉积氢化非晶硅薄膜的表面钝化性能相关领域钝化等离子体增强化学气相沉积材料科学硅非晶硅化学气相沉积晶体硅薄脆饼载流子寿命无定形固体薄膜兴奋剂纳米晶硅图层（电子）分析化学（期刊）光电子学纳米技术结晶学化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1063/1.2164902
DOI	10.1063/1.2164902 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Stefaan De Wolf; G. Beaucarne 出版日期：2006-01-09
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