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Y2O3 wall interactions in Cl2 etching and NF3 cleaning plasmas
Cl2蚀刻和NF3清洗等离子体中的Y2O3壁相互作用
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网址
https://doi.org/10.1116/1.4978552
DOI
10.1116/1.4978552 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Tianyu Ma; Tyler List; Vincent M. Donnelly
出版日期：2017-03-21
求助人
-- 在 2025-01-10 15:01:56 发布自江苏，悬赏 10 积分
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