标题 |
Impact of carbon-doping on time dependent dielectric breakdown of SiO2-based films
碳掺杂对SiO2基薄膜随时间介电击穿的影响
相关领域
随时间变化的栅氧化层击穿
介电强度
材料科学
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分析化学(期刊)
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电子工程
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晶体管
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期刊:Applied Physics Letters 作者:Larry Zhao; Y. Barbarin; Kristof Croes; Mikhaı̈l R. Baklanov; Patrick Verdonck; et al 出版日期:2015-02-16 |
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