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 Evaluation of chromium coatings deposited by standard and bipolar high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS & B-HiPIMS) for nuclear power applications 核电用标准和双极高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS和B-HiPIMS）沉积的铬涂层的评价
相关领域
高功率脉冲磁控溅射
材料科学
铬
腔磁控管
溅射沉积
光电子学
溅射
冶金
薄膜
纳米技术
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| DOI |
10.1016/j.surfcoat
doi
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10.1016/j.surfcoat.2024.130835
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