| 标题 |
Remote Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition(PEALD) of TiN Using TDMAT with NH₃ plasma
使用TDMAT和NH OMR等离子体进行远程等离子体增强原子层沉积（PEILD）
相关领域
原子层沉积
等离子体
锡
材料科学
沉积（地质）
图层（电子）
远程等离子体
纳米技术
物理
冶金
化学气相沉积
沉积物
量子力学
生物
古生物学
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| 其它 |
期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：Ju Youn Kim; Hyeongtag Jeon; Do Youl Kim; Hee Ok Park 出版日期：2004-01-01 |
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