The Anisotropic Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition SiO2/Spin-on Glass Process for 0.35 µm Technology

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标题	The Anisotropic Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition SiO2/Spin-on Glass Process for 0.35 µm Technology 0.35 μ m技术的各向异性等离子体增强化学气相沉积SiO2/旋涂玻璃工艺相关领域等离子体增强化学气相沉积化学气相沉积材料科学氧化物德拉姆椭圆偏振法沉积（地质）等离子体各向异性氧化硅动态随机存取存储器分析化学（期刊）化学工程光电子学硅薄膜纳米技术化学光学电气工程冶金氮化硅工程类生物物理沉积物色谱法古生物学半导体存储器量子力学
网址	https://doi.org/10.1143/jjap.32.6119
DOI	10.1143/jjap.32.6119 doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Lai-Juh Chen; Shaw-Tzeng Hsia Shaw-Tzeng Hsia; K.C. Chen 出版日期：1993-12-01
求助人	公冶青枫在 2024-07-22 16:22:42 发布自山东，悬赏 10 积分
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