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 Properties of Porous Silicon Films Formed by Metal-Assisted Chemical Etching Using Various Oxidants 不同氧化剂金属辅助化学刻蚀多孔硅薄膜的性能
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期刊：Bulletin of the Lebedev Physics Institute 作者：N. N. Melnik; В. В. Трегулов; G. N. Skoptsova; О. А. Милованова 出版日期：2021-12-01 |
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